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同济大学徐斌、张天阳,清华大学孙文俊联合主持特刊——water:紫外线技术在水和废水处理中的应用 | mdpi 特刊征稿 |
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紫外线 (uv) 技术具有很高的杀菌效率和不产生消毒副产物 (dbps) 的特性,因此已广泛应用于水和废水的消毒。此外,基于uv的高级氧化工艺 (aop) 也已成为水处理中的热点问题,例如uv/h2o2,uv/o3,uv/氯,uv/过硫酸盐等。在基于紫外线的aop中产生的强氧化自由基可以加速微生物的灭活和污染物的降解。
为了更好地促进不同领域学者对于紫外线技术应用于水和废水处理的交流和深入探讨,期刊邀请了同济大学徐斌教授、张天阳副研究员以及清华大学孙文俊副教授共同创立“application of uv technologies in water and wastewater treatment”特刊。
客座编辑介绍
徐斌 教授
同济大学
研究方向:饮用水处理技术、消毒副产物生成与控制、微量有机物的高级氧化去除。
张天阳 副研究员
同济大学
研究方向:基于uv的高级氧化工艺、水处理消毒、消毒副产物生成机理及控制方法、污染物降解、uv-led技术。
孙文俊 副教授
清华大学
研究方向:紫外线消毒、紫外线高级氧化工艺、水和废水的先进处理工艺。
特刊主题介绍
紫外线技术已被证明在水和废水处理中具有许多优势,但如何高效、安全地使用紫外线技术仍有待进一步研究。目前,低压和中压紫外汞灯仍然是水厂中最常用的紫外光源。随着紫外线技术的不断发展,一些新的紫外光源,如真空紫外线 (vuv)、紫外线发光二极管 (uv-led) 等,在水处理研究领域引起了越来越多的关注。而这些新型紫外线光源的引入是否会在水和废水处理中产生不同的效果,值得深入探讨。
特刊征稿信息
本期特刊致力于各种紫外线技术在水和废水处理中的应用,特刊包括但不限于以下主题:
传统紫外线技术的改进;
新型紫外线光源的开发;
紫外线处理过程中的水质安全问题。
稿件类型:原创研究论文、综述等。
特刊投稿截止日期:2021年12月31日
特刊详情页面:
(issn 2073-4441,if 2.544) 是一本国际开放获取期刊,由mdpi出版发行。期刊建刊于2009年,2012年被scie数据库收录。期刊主题涵盖水生态学和水资源管理等水资源相关的科学技术。期刊采取单盲同行评审,一审周期约为15.8天,文章从接受到发表仅需2.8天。
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